Pagrindinis skirtumas tarp vienalytės ir nevienalytės branduolių susidarymo yra tas, kad homogeninis branduolių susidarymas vyksta toliau nuo sistemos paviršiaus, o nevienalytis branduolių susidarymas vyksta sistemos paviršiuje.
Branduoliavimas yra pradinis naujos termodinaminės fazės arba naujos struktūros formavimosi savaiminio organizavimo būdu proceso žingsnis. Yra du jo tipai; jie yra vienalytis branduolys ir heterogeninis branduolys. Jie skiriasi vienas nuo kito pagal vietą, kurioje susidaro branduolys. Branduolio vieta yra skysčio ir garų sąsaja, kurioje susidaro branduolys. Todėl suspensijos dalelės, burbuliukai arba sistemos paviršius gali veikti kaip branduolio susidarymo vieta. Heterogeninis branduolių susidarymas vyksta branduolio susidarymo vietose, o homogeninis branduolių susidarymas vyksta toliau nuo branduolio susidarymo vietos.
Kas yra homogeninis branduolys?
Homogeninis branduolių susidarymas yra branduolio susidarymo procesas, vykstantis toliau nuo sistemos paviršiaus (kurioje vyksta branduolių susidarymas). Tai lėtesnis procesas nei heterogeninio tipo branduolių susidarymas. Todėl tai rečiau pasitaiko.
Paprastai branduolių susidarymas sulėtėja eksponentiškai dėl laisvosios energijos barjero. Be to, ši energijos kliūtis atsiranda dėl laisvos energijos nuobaudos formuojant augančio branduolio paviršių. Be to, homogeniniame branduolyje, kadangi šis procesas vyksta toli nuo paviršiaus, branduolys primena sferą, kurios paviršiaus plotas yra 4Πr2. Ir branduolys auga aplink sferą.
Kas yra heterogeninis branduolys?
Heterogeninis branduolių susidarymas yra branduolio susidarymo procesas, vykstantis sistemos paviršiuje (kurioje vyksta branduolių susidarymas). Tai greitesnė už homogeninio tipo branduolio susidarymą. Be to, tokio tipo branduolių susidarymas vyksta branduolio susidarymo vietose; skysčio ir garų sąsaja. Suspenduotos dalelės, burbuliukai, sistemos paviršius gali veikti kaip branduolio susidarymo vieta. Skirtingai nuo homogeninių branduolių susidarymo tipų, šis tipas atsiranda lengvai.
01 pav. Paviršiaus ploto skirtumai paviršiuje ir toli nuo paviršiaus.
Esant nevienalytiškam branduoliui, kadangi jis vyksta paviršiuje, branduolio susidarymo laisvosios energijos barjeras yra mažas. Taip yra todėl, kad paviršiuje (sąsajoje) branduolio, kuris liečiasi su aplinkiniu skysčiu, paviršiaus plotas yra mažesnis (mažiau nei rutulio plotas vienalytės branduolio pavidalu). Taigi tai sumažina laisvosios energijos barjerą, todėl branduolio susidarymo procesas pagreitėja eksponentiškai.
Kuo skiriasi vienalytis ir heterogeninis branduolys?
Homogeninis branduolių susidarymas yra branduolio susidarymo procesas, vykstantis toliau nuo sistemos paviršiaus. Jame nėra jokios branduolio susidarymo vietos, jis taip pat yra lėtas. Todėl ši forma yra mažiau paplitusi. Be to, paviršiaus plotas, kuris prisideda prie branduolio augimo, turi didelį homogeninį branduolį. Kita vertus, heterogeninis branduolių susidarymas yra branduolio susidarymo procesas, vykstantis sistemos paviršiuje. Tai apima branduolio susidarymo vietas ir taip pat yra greita. Taigi tai yra labiausiai paplitusi branduolio susidarymo forma. Be to, paviršiaus plotas, kuris prisideda prie branduolio augimo, yra mažas heterogeninio branduolio pavidalu. Toliau pateiktoje infografijoje lentelės forma pateikiamas skirtumas tarp homogeninio ir nevienalyčio branduolio.
Santrauka – vienalytis vs heterogeninis branduolys
Homogeninis ir nevienalytis branduolys yra dvi pagrindinės branduolių susidarymo formos. Skirtumas tarp vienalytės ir nevienalytės branduolių susidarymo yra tas, kad vienalytis branduolių susidarymas vyksta toliau nuo sistemos paviršiaus, o heterogeninis branduolių susidarymas vyksta sistemos paviršiuje.
